2021 年度研究成果報告書

設計性ナノ空間を利用したグラフェンナノリボンの高効率創製

研究課題

PDF

研究課題/領域番号	20K21217
研究種目	挑戦的研究(萌芽)
配分区分	基金
審査区分	中区分35:高分子、有機材料およびその関連分野
研究機関	東京大学
研究代表者	植村卓史東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 教授 (50346079)
研究期間 (年度)	2020-07-30 – 2022-03-31
キーワード	多孔性金属錯体 / グラフェンナノリボン / ナノ空間
研究成果の概要	グラフェンナノリボン(GNR)は次世代の電子デバイスの根幹を担う半導体材料として、近年活発に研究がなされている。GNRは幅やサイズによって、光電子的特性が大きく変化するため、目的とする物性を引き出すためには、GNRの分子構造を精密に制御することが必要である。本研究では、多孔性金属錯体(MOF)が有する一次元状のナノ細孔を反応場として用いることで、原子レベルで構造が制御されたGNRを、簡便かつ大量に合成することに成功した。これにより、GNRの集積状態の精密制御も可能になり、GNRを基盤とした物質科学や応用展開が大幅に加速されることが期待される。
自由記述の分野	錯体化学、高分子化学、ナノ空間材料
研究成果の学術的意義や社会的意義	GNRはシリコン半導体に代わる次世代型電子材料としての応用が期待されている。本研究により、これまで未解明であったGNRの物性・機能性探索を可能にし、これまでの理論予測との比較なども行うことで、次世代型電子・スピン材料としての有用性を発信できる。GNRの集積状態までも精密に制御することが可能になることから、本研究を契機に、GNRを基盤とした物質科学や応用展開が世界中で大幅に加速されると期待される。