研究課題
基盤研究(C)
電流密度およびPd-Ni-P浴組成を調整することにより、電析Pd-Ni-P薄膜組成を制御できた。バルク金属ガラスと同様に、Pd36-57at%, Ni25-43at%, P17-20at%の組成をもつ電析Pd-Ni-P薄膜は金属ガラスであることが分かった。電析Pd-Ni-P金属ガラス薄膜のガラス形成能は、バルク金属ガラスと同様にPd40at%程度が最もよいことが分かった。
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表面技術
巻: Vol.63、No.5 ページ: 323-328
Electrochemistry
巻: Vol.79、No.4 ページ: 249-251