研究課題
基盤研究(C)
主にチタンの陽極酸化プロセスにおける強磁場印加の影響について調査した。強磁場印加により磁場印加はナノチューブ形成を促進させることがわかった。これはMHD効果による対流がイオンの拡散を促進させたためであると考えられる。チタンの陽極酸化に現敵して，光触媒性能試験を行った。磁場印加によって光触媒性能を向上させることができた。陽極酸化への磁場印加は有用性があると考えられる。
材料電磁プロセッシング
金属の陽極酸化プロセスは一般的な表面処理技術であるが，本研究は強磁場中で陽極酸化を行うことで，陽極酸化皮膜の従来もt機能性を向上することができるところに着目する。また，陽極酸化皮膜が従来持ち得なかった機能をも発言できる可能性がある。強磁場印加により陽極酸化皮膜の結晶方向を操作し，熱処理後の結晶サイズを粗大かつ均一にすることができると同時に，酸化膜の成膜速度を増加することができる。以上の観点から，本技術により人類社会の持続的な発展に寄与することができる。
