研究課題
基盤研究(B)
本提案研究は光学部品や高精度金型部品の高精度,安定的な研磨加工法のための新しい研磨法である自転/公転型研磨法を提案した.本研究において,自転/公転型研磨法の原理を明らかにし,自転/公転型研磨ユニットを試作した.また,試作した研磨装置による研磨実験を行い,ガラス材料や金型材料を対象に基礎研磨実験を行った.各種研磨実験により研磨加工効果の確認と共に,研磨加工除去量の安定性の確認を行い,高精度形状修正研磨法として応用できることを確認した.
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