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シリコン基板上に形成した高アスペクト比微細ホールパターンを非酸化雰囲気中で高温アニールすると自発的な形態変化が起こる。本研究では、この自発的形態変化を利用した３次元微細構造形成技術について研究した。様々な構造・寸法の微細ホールパターンについて形態変化過程を観察し、自発的形態変化を利用して形成することができる３次元構造を明らかにした。連続体モデルに基づいた高アスペクト比ホールの形態変化の数値シミュレーションを行い、シリコン基板上のホールパターンの形態変化が表面拡散によって引き起こされていることを明らかにした。
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