| 研究実績の概要 |
代表者らは、一つのケイ素原子上が二つの求核反応点となるトリアルキルシリル置換ジリチオシランの合成、単離に成功し、その分子構造を明らかにすると共に、適切な立体保護基を持つジクロロシランやジクロロゲルマンなどとのカップリング反応により非対称置換型ジシレンやケイ素=ゲルマニウムなどの異核高周期典型元素二重結合化合物を短行程で合成出来る優れた反応剤であることも示してきた。様々なケイ素化合物の合成にジリチオシランを活用する上で、ジリチオシラン上の置換基のバリエーションを増やすことも重要であると考えられる。本年度は、これまでに発生例すら知られていないアルキル置換ジリチオシランの合成を検討した。
ケイ素多重結合化合物の合成への適用も踏まえ、嵩高いtert-ブチル基（tBu）を持つジリチオシランの合成検討を行った。tBu2SiCl2の還元的リチオ化を試みた結果、ジリチオシランの生成条件を見出すことが出来なかったが、触媒量の4,4’-ジ-tert-ブチルビフェニル存在下、過剰の金属リチウムとの反応でケイ素-ケイ素結合ひとつを形成した1,2-ジリチオジシラン（LitBu2Si-SitBu2Li）が定量的に生成し、その単離およびX線結晶構造解析による分子構造の決定に成功した。ふたつのtBu基ではジリチオ化しようとしているケイ素周りの立体保護が不十分であるため、分子間でのSi-Si結合生成（還元的カップリング）を抑制できていないことに起因していると考えられる。アルキル置換ジリチオシランの生成には、tBu基より嵩高いアルキル基が必要であると考えられ、次年度以降の検討課題とする予定である。
得られたtBu置換1,2-ジリチオジシランの反応性についての検討を行い、いくつかのメチル置換α,ω-ジクロロオリゴシランとのカップリングで対応する環状オリゴシランを中程度の収率で合成できることも明らかにした。
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