| 研究課題/領域番号 |
22K14729
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| 研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
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研究代表者 |
佐藤 知哉 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 生命工学領域, 主任研究員 (40783874)
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| 研究期間 (年度) |
2022-04-01 – 2025-03-31
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| キーワード | ポリマーブラシ / 表面開始原子移動ラジカル重合法（SI-ATRP） / ぬれ性 / 共重合 / 親水性 / 疎水性 / 吸湿性 |
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| 研究実績の概要 |
本年度も前年度に引き続き、本研究課題の主目的であるポリマーブラシを用いたパラドキシカル表面の作製に向けた合成法の開発と（コ）ポリマーブラシの合成・評価を実施した。これまでに開発した空気中で実施可能な原子移動ラジカル重合法（Paint-on法）を用いて、各種モノマー（メタクリル酸メチル（MMA）、スチレン（St)、メタクリル酸3-スルホプロピルカリウム（SPMK）、アクリル酸ヘキシル（HA））の（共）重合を検討した。なお前年度まで使用していた長鎖フッ化アルキルモノマーは、環境上の懸念の高まりから、基礎検討での使用を停止し応用検討でのみ使用することとした。
これまで、ブロック共重合時の反応速度や得られるコポリマーブラシの性質については未調査であったことから、本年度は、MMAとStをモデルモノマーとして、ファーストブロックにPMMA、セカンドブロックにPStとなるコポリマーブラシ（PMMA-b-PStブラシ)の合成と評価から研究を開始した。分光膜厚測定結果から、PMMAブラシを起点に実施したPaint-on法でもSt単一と同等の速度で重合が進行していることが明らかになった。また、表面観察結果から、PMMAブラシ、PMMA-b-PStブラシはいずれも同様に均一かつ平滑であった。これらの結果から、Paint-on法がコポリマーブラシの合成に有効であることが明らかとなった。
次に、この知見をSPMKとHAの共重合に活用することで、コポリマーブラシ（PSPMK-b-PHAブラシ)の合成も実施した。得られたPSPMK-b-PHAブラシは、上記の系と同様に、厚膜、均質、平滑であった。さらに、各表面のぬれ性と吸湿性評価を実施したところ、セカンドブロックであるHAの重合に伴い、コポリマーブラシの親水性、吸湿性が明確に低下した。以上から、本手法によるパラドキシカル表面の作製の可能性が示された。
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| 現在までの達成度 (区分) |
現在までの達成度 (区分)
2: おおむね順調に進展している
理由
本研究課題を遂行する上で重要なポリマー合成法の改良、基板の処理技術の改良により官能基が複数共存する表面の作製に成功した。研究拠点の変更を伴う部署異動があり、研究環境の整備に時間を要したものの、概ね順調に進んでいると言える。
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| 今後の研究の推進方策 |
改良したポリマーブラシ合成法を用いて、各種親水性・疎水性モノマーを原料に復讐種類の（コ）ポリマーブラシを合成し、分析と評価を進めパラドキシカル表面を構築するための要素を解明する。
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