研究課題
若手研究(B)
収差補正透過型電子顕微鏡観察と独自に開発した偽像処理法を組み合わせることにより、3C-SiC/Si(001)界面の原子配列構造を明らかにした。また{111}積層欠陥と界面の接合領域の原子配列構造を解析し、積層欠陥エッジは 30°ショックレー部分転位であること、および格子歪みが大きく緩和されていることを明らかにした。エピタキシャル界面形成初期の炭化プロセス中に既に大量の積層欠陥が発生していることも明らかとなり、積層欠陥形成メカニズムのモデルを提案することに成功した。
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