| 研究課題/領域番号 |
25280013
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 一部基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
計算機システム
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
高橋 篤司 東京工業大学, 理工学研究科, 教授 (30236260)
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| 研究分担者 |
小平 行秀 会津大学, コンピュータ理工学部, 上級准教授 (00549298)
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| 研究期間 (年度) |
2013-04-01 – 2016-03-31
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| キーワード | 計算機システム / 設計技術 / 設計工学 / 製造容易化 / リソグラフィ |
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| 研究成果の概要 |
本研究は，ウエハ上に微細な回路パターンを実現するための次世代リソグラフィ技術として有望な2回露光技術，側壁プロセス技術などを効果的に用いて，高性能な集積回路を効率よく実現するために必要となる物理設計技術として，パターン分割アルゴリズム，折れ曲がり制約付最短路アルゴリズム，光強度分布見積もりアルゴリズムなど，製造と設計の双方に親和性の高い実用に十分耐え得る様々な物理設計技術を開発した．
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| 自由記述の分野 |
設計自動化
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