| 研究成果の概要 |
有機無機ハイブリッド材料であるシルセスキオキサン(SQ) は, シリカ (無機) とシリコーン (有機) の中間的構造・性質を示す。従来SQ膜はシリコンアルコキシドを加水分解・縮重合させてゾル調製し, 200~400℃焼成することで製膜されている. 本研究では, 熱エネルギーを用いない製膜法として, 紫外光などの光励起によりゾル-ゲル反応を促進する光ゾル-ゲル法を用いた光製膜法を提案し，SQ膜が製膜可能なことを明らかとした。ラジカルおよびカチオン重合によるSQ膜は，水／イソプロピルアルコールの浸透気化分離に高分離係数と高透過率を示した。
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