| 研究成果の概要 |
側頭葉てんかんに対して慢性頭蓋内脳波記録により発作焦点を同定，内側あるいは外側側頭葉てんかんと診断．切除術中にセボフルラン濃度を変化させ0.5および1.5MACの術中皮質脳波を記録．0.5,1.5MACそれぞれの濃度での側頭葉内側と外側のスパイク出現率および，0.5から1.5MACに増加させた際の増加率を測定．0.5から1.5MACに増加させた際の増加率は，内側側頭葉てんかん群で5.22倍となり，外側側頭葉てんかん群に比較して有意に高かった(P＝0.001)．セボフルラン濃度上昇によりスパイク出現頻度が上昇するが，その増加率が高い場合，内側側頭葉てんかんである可能性が高いと言える結果であった．
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