研究課題
若手研究(B)
最先端成膜プロセス技術の一つ、マイクロ波プラズマCVD (Chemical Vapor Deposition)成膜技術により、白金加金表面へのチタニアコーティングを試みた。マイクロ波として0.8 kw、1.0 kw、1.2 kwにてそれぞれ成膜した基板において、ロックウェル試験を行った。その結果、SEMによる微細組織観察では、等方性の結晶組織が観察されたが、結晶構造が粗造であり組織的にはまだ脆弱であった。
補綴理工系歯学