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一般的な散乱体微細構造の計測は，従来の光学式計測では困難である．そのため，三光束干渉定在波シフトを用いた超解像光学式計測技術を開発している．産業応用を見据え，提案手法の二次元表面構造への適用可能性を検証した．試料構造に対応した方向に照明を複数回施し，一次元的な超解像処理を行い，その結果を融合することによる二次元超解像処理を実現した．この手法により，実際の半導体微細構造を想定した試料，通常の光学式計測では解像できない試料において，二次元的な超解像による構造再構成に成功した．また，二次元構造における欠陥検出可能性が従来手法より向上することを検証した．
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