次世代単層超砥粒ホイールのための砥粒分布精密制御法の開発研究

2016 年度 研究成果報告書

• 研究課題/領域番号: 26420050
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 生産工学・加工学
• 研究機関: 岡山大学
• 研究代表者: 大橋 一仁 岡山大学, 自然科学研究科, 教授 (10223918)
• 研究期間 (年度): 2014-04-01 – 2017-03-31
• キーワード: 総形ダイヤモンド砥石 / ダイヤモンド砥粒 / 静電場 / 砥粒密度

研究成果の概要

リブ形状の総形単層メタルボンドダイヤモンド砥石とこれに対向させた金属プレート間に生成させる静電場をシミュレーションし，静電気力によるダイヤモンド砥粒の飛翔特性を考慮して砥粒密度分布を生成するための条件を明らかにした．その結果に基づき，静電気力を利用してメタルボンドペーストを塗布した砥石台金の表面に，金属プレート上に配置したダイヤモンド砥粒を，砥石使用時の総切込み量の分布に応じた砥粒密度の分布を与え付着させることができた．

自由記述の分野

工学