|
本研究課題では，Siスピンデバイスの基盤技術を確立することを最終的な目的として，Siチャネルへのスピン注入技術と，MOS反転層チャネル内のスピンダイナミクスを評価できるデバイス技術を開発した．
まず，種々のトンネル障壁を有するスピン注入源を用いて，Siへのスピン注入を詳細に検証して，Siチャネルへ直接スピン注入可能なスピン注入源に必要な要件を明らかにした．次いで，MOS反転層における実効移動度のユニバーサリティを用いて，スピンダイナミクスを散乱過程ごとに分離して評価できるボトムゲート構造の電界アシスト4端子Hanle効果MOSデバイスの解析を行い，このデバイスの設計方法を確立した．
|
