全ドライプロセスX線・電子線リソグラフィ用レジストの研究

1986 年度 実績報告書

• 研究課題/領域番号: 59420030
• 研究機関: 名古屋大学
• 研究代表者: 服部 秀三 名大, 工学部, 教授 (10023003)
• 研究分担者: 内田 悦行 愛知工業大学, 工学部, 助教授 (20023187) ; 内川 嘉樹 名古屋大学, 工学部, 教授 (20023260) ; 丸勢 進 名古屋大学, 工学部, 教授 (20022981) ; 森田 慎三 名古屋大学, 工学部, 助教授 (00076548) ; 家田 正之 名古屋大学, 工学部, 教授 (50022984)
• キーワード: X線リソグラフィ / X線レジスト / プラズマ重合 / ドライプロセス / X線源 / レーザ干渉膜厚計 / アラインメント

研究概要

半導体LSI加工のウエハプロセス並びにマスクプロセスを全ドライ化するX線真空リソグラフィの実現の見通しが得られた。
1.レジスト並びにマスク材料工学的研究実績
(1)プラズマ重合レジストの重原子増感効果をシンクロトロン放射光照射実験で見出し、1μmのパターン転写に成功した。
(2)プラズマ重合膜に重原子を数パーセント混入することによりドライ耐性を実現した。
(3)選択的な重原子固定化プロセスにより単層レジストでドライ現象パターン転写の実現の可能性を見出した。
(4)プラズマ重合Au-C膜のドライ加工性の向上により0.5μmのX線吸収体パターンの作成に成功した。
(5)プラズマCVD法により透明度の高い且つ引っ張り応力0.8〜6.5×【10^q】dyn・【cm^(-2)】の基板用B-C-N膜の作成に成功。
2.装置工学的研究実績
(1)二重双光路レーザ干渉膜厚計(59年度設備備品):試料挿入設定機構に対して改良を加え、精度±1nmの高感度化を実現した。
(2)パターン発生器付走査電子顕微鏡(60年度設備備品):4槽回転型プラズマ成膜現像転写真空リソグラフィ装置に組み込み、非平面形状部品にも超微細加工を可能にした。
(3)円錐対陰極高輝度X線発生装置(60年度設備備品):アルコールの気化熱を利用したコーン型のターゲット冷却効果により高輝度を実現した。
(4)アラインメント技術の開発:ホトリソグラフィとX線リソグラフィに共用出来るミックスアンドマッチ用位相差0次回折モアレアラインメント法の有効性と±10nmの精度を実証した。

研究成果

• [文献書誌] Masaru Hori: J.Vac.Sci.Technol.B4. 500-504 (1986)
• [文献書誌] 内田悦行: 真空. 29. 424-428 (1986)
• [文献書誌] Shuzo Hattori: Bull.Japan Soc.Prec.Eng.20. 73-78 (1986)
• [文献書誌] Vijay T.Chitnis: Jpn.J.Appl.Phys.25. 1078-1083 (1986)
• [文献書誌] Yoshiyuki Uckida: Proc.SPIE. 661. 95-101 (1986)
• [文献書誌] Yoshiyuki Uchida: Proc.SPlE. 661. 102-109 (1986)
• [文献書誌] Yoshiyuki Uchida: J.Vac.Sci.Technol.B5. 244-247 (1987)
• [文献書誌] 内田悦行: 愛知工業大学研究報告. 22B. (1987)
• [文献書誌] 内田悦行: 真空. 30. (1987)
• [文献書誌] Masaru Hori: Plasm Chem.& Plasma Process.(1987)
• [文献書誌] Masaru Hori: J.Electrochem.Soc.(1987)
• [文献書誌] Hitomi Yamada: J.Appl.polym.sci.(1987)
• [文献書誌] Hitomi Yamada: J.Electrochem.Soc.(1987)
• [文献書誌] Kadry Montasser: Jpn.J.Appl.Phys.(1987)
• [文献書誌] Shashi Gangal: Thin Solid Films. (1987)
• [文献書誌] 明石和夫: "光・プラズマプロセシング" 日刊工業新聞社, 370 (1986)