高精度微細エッチング用ホトレジストの密着性の電気化学的評価法

2001 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 12875134
• Research Institution: Tohoku University
• Principal Investigator: 杉本 克久 東北大学, 大学院・工学研究科, 教授 (80005397)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 赤尾 昇 東北大学, 大学院・工学研究科, 助手 (80222503) ; 原 信義 東北大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (40111257)
• Keywords: シャドーマスク / フォトレジスト / 密着性 / エッチング / 電気化学的評価 / 定電位アノード分極 / 密着性ファクター / エッチングファクター

Research Abstract

CRT用シャドウマスクの高精度化を図るためには,エッチングマスクとなるホトレジストと素地金属の密着性を改善することが重要である。そのためには,まず,ホトレジストの密着性を定量的に評価する方法が必要である。本研究では,ホトレジストの密着性を電気化学的に評価する方法を開発することを目的として一連の検討を行い,以下のような成果を得た。
1.電気化学的測定法による密着性の定量的評価方法の改良:前年度に開発した定電位分極試験法を発展させ,密着性を定量的に評価するために定電位分極時の通過電気量Qから密着性ファクターを求めることを検討した。密着性が良く,不働態化する試料のQを基準にした密着性ファクターを定義し,前処理条件による変化を調べた。次にFeCl_3溶液でエッチングを行った際のエッチングファクターを測定し,密着性ファクターと比較した。その結果,両者の間には良い相関関係があり,密着性ファクターを用いるとエッチングの良否を定量的に予測可能であることが分かった。
2.材料およびレジストの化学的状態と密着性の関係:インバー合金を前処理する際の脱脂剤濃度(2,4,7,10%),表面残留水量(0,0.25,1.0,2.4g),乾燥温度273,333,393K()および乾燥時間(180,300,900s)を種々変えた試料の表面をX線光電子分光法により解析した。その結果,密着性が悪くなる前処理条件の表面には水酸化物結合が多く存在することなどが分かった。