次世代ナノメータ高密度光アシスト磁気記録とディスク表面電位解析

2003 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 14550333
• Research Institution: Nihon University
• Principal Investigator: 中川 活二 日本大学, 理工学部, 助教授 (20221442)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 伊藤 彰義 日本大学, 理工学部, 教授 (60059962)
• Keywords: 磁気記録 / 光磁気記録 / 光アシスト磁気記録 / 高密度記録 / 電位計測 / 表面電位

Research Abstract

1平方インチあたり1Tbitの情報記録には,現行の磁気記録では難しく,新たな光記録と磁気記録の技術を融合した光アシスト磁気記録が有望と考えられている.しかし,光の収束方法,磁気ヘッドとの複合など新たな課題が多い.本研究では,光アシスト磁気記録実験装置構築とディスク表面電位解析により,実現のための基礎研究を実施した.
本年度は以下の実績を得た.
1)光アシスト磁気記録評価装置による基礎実験評価
昨年度は光ディスク評価装置に磁気ヘッドを搭載するための装置設計,構築を行った.この装置に,潤滑剤塗布したテスト用ディスクを試作し,磁気ヘッドと光ヘッドの位置あわせ手法を確立して,基本的な光アシスト磁気記録実験を可能にした.
2)光アシスト記録材料の研究
光アシスト磁気記録媒体の一つとして,アモルファス磁性材料と磁気異方性の大きい磁性材料とを複合した記録材料を検討し,アモルファスTbFeCo膜に下地膜として配向性を制御し微粒子化したFePt高磁気異方性材料を用いて高保持力化を可能にした.これにより,光アシスト磁気記録材料として期待できる新規な材料を提案した.
3)表面電位計測システムの構築
表面電位計測のための探針機構を自作し,カンチレパーに働く静電力から表面電位を計測するシステムを構築した.本システムの空間分解能の基本特性評価,電位計測方式の検討を行い,基本性能を明らかにし,ディスク評価を継続している.