2007 Fiscal Year Annual Research Report
ナノリソグラフィ時代における設計自動化に関する研究
Project/Area Number |
19700049
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Research Institution | Toyohashi University of Technology |
Principal Investigator |
杉原 真 Toyohashi University of Technology, 工学部, 講師 (80373538)
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Keywords | 設計自動化 / 電子ビーム直描 / フォトマスク製造 / 部分一括描画 / 可変成型ビーム / スループット / NREコスト / 少量多品種生産 |
Research Abstract |
シングルカラム描画装置に対して、論理合成やセルのレイアウトを考慮することにより、描画時間を削減する研究を行った。論理合成時に描画時間を最小化するようなマッピングを行うことにより、従来手法と比べて26%の描画時間を削減できることが確認された。また、スタンダードセル設計におけるセルのレイアウトを考慮し、最適なCPマスクを作成することにより、従来手法と比べて71%の描画時間を削減した。
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Research Products
(2 results)