2008 Fiscal Year Final Research Report

The development of high permeability FeCo nanocrystalline films for GHz applications by means of acetylene mixtured gas reactive sputtering

Research Project

Project/Area Number	19760214
Research Category	Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Allocation Type	Single-year Grants
Research Field	Electronic materials/Electric materials
Research Institution	Shinshu University
Principal Investigator	LIU Xiaoxi Shinshu University, 工学部, 准教授 (10372509)
Project Period (FY)	2007 – 2008
Keywords	軟磁性薄膜 / 高周波デバイス / ナノ結晶薄膜
Research Abstract	無線LANやBluetoothに代表される高速、大容量通信機器の集積化、小型化および省エネルギー化のため、現在の空芯インダクタに替わって、薄膜磁芯インダクタの実用化が急務である。しかし、通常の磁性薄膜はGHz帯域では共鳴損失が大幅に増加するため、その適用は困難である。この問題を克服のために、FeCo/NiFe積層薄膜、FeCo/反磁性体積層薄膜、FeCo/酸化物グラニュラー薄膜など薄膜構造の提案がある。一方、本課題では、これまでに例のない、アセチレンガス導入による反応性スパッタ法を用いて形成するFeCo磁性薄膜を、薄膜インダクタ用磁芯材料として提案する。高飽和磁化を示すFeCo合金薄膜は,異方性磁界Hkを大きくすることによって,共鳴周波GHzまでの広帯域化が可能となる。本研究の目標は、共鳴周波数は3GHz以上、比透磁率実部は1000以上、4πMsは20kG以上の高性能薄膜磁芯の開発である。