2023 Fiscal Year Annual Research Report
競争政策から見た技術標準とパテントプールの最適制度設計に関する研究
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19K23190
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| Research Institution | Hitotsubashi University |
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Principal Investigator |
門脇 諒 一橋大学, 社会科学高等研究院, 特任講師 (90845041)
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| Project Period (FY) |
2019-08-30 – 2024-03-31
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| Keywords | 知的財産権制度 / 競争政策 / 特許の藪 / 公知技術 |
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| Outline of Annual Research Achievements |
上流の技術市場と下流の製品市場において、垂直統合企業と、上流あるいは下流でのみ事業を行っている企業が混在している寡占市場を想定した非協力ゲームモデルを構築した。またそのモデルに基づき、3Dプリンター産業のデータを用いて需要・供給構造を推定した。下流の製品市場において上流で取引される技術(特許)が必要である場合、その契約数の多さに依存してライセンス使用料が増加し、下流における最終製品の価格も上昇することが示された(特許の藪による反競争的効果)。またパテントプールがこの反競争的効果を緩和させる効果を持つことを示した。さらに垂直分離による二重限界性と、上述した特許の藪、およびライバル企業のコストを上げるための戦略的なライセンス使用料引き上げが、それぞれどの程度、定量的なインパクトを持つかを分析し、一般的に特許の藪の効果は二重限界性に対してより大きな効果を持つことを示した。
さらにパテントプールが存在する状況下での、企業の研究開発投資インセンティブについて分析した。技術市場において、既にロイヤリティ配分等に関する特定の合意がなされたパテントプールが形成されている場合、企業が追加的に研究開発投資を実施するインセンティブがどのように変化するかは自明でなかった。今回実施した分析では、一般的にパテントプール存在は、特許の藪が解消され、企業の期待利益が上昇することにより、研究開発インセンティブも上昇することが示された。
また、異時点間における特許(先行する特許と後発の特許)の関係を分析した。日本において出願公開制度が導入される直前・直後の特許と、その引用情報を利用し、先行特許の価値が高いほど引用が増えるという自明の関係だけでなく、引用が増えるほど先行特許の価値が増加することを示した。また新規な先行特許は、他者の長期的な研究開発の方向性を変化させ、その効果は少なくとも30年程度継続する事を示した。
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