高精度スティッチング干渉法に基づく硬?線ナノ集光ミラー用表面形状計測法の開発

2010 Fiscal Year Annual Research Report

• Project/Area Number: 21760106
• Research Institution: Japan Synchrotron Radiation Research Institute
• Principal Investigator: 湯本 博勝 (財)高輝度光科学研究センター, 光源・光学系部門, 研究員 (20423197)
• Keywords: 表面形状計測 / X線ミラー / スティッチング干渉計 / 回転楕円面ミラー / X線光学素子 / X線ナノ集光

Research Abstract

本研究では,1枚のミラーにより2次元集光可能な集光光学素子である部分回転楕円面形状ミラーによる硬X線ナノ集光実現を目的とし,本X線集光ミラーを作製するために必要となる形状精度を保証可能な表面形状計測システムの構築を行った.平成21年度までの,可視光位相シフト白色顕微干渉計を利用した相対角度と相対高さ決定型の高精度スティッチング干渉法に基づく形状計測装置の開発結果を踏まえて,平成22年度は,主に被検試料ホルダー部を改良し,形状計測システムの安定化対策を行った.さらに,本装置を用いX線集光ミラーを作製するために,X線ミラーのテスト基板の入手を行うとともに,平成21年度に開発した波動光学集光シミュレーターと光線追跡集光シミュレーターを用いることで,集光調整に必要なアラインメント精度を詳細に検討し,これに基づき部分回転楕円面形状ミラーのためのX線集光調整装置の設計を行った.放射光用集光ミラーとして従来から使用されている2枚のミラーを用いたKB(Kirkpatrick-Baez)型の集光光学系調整装置の構成と比較し,本テーマの部分回転楕円面形状ミラーの集光光学系調整装置の構成はおよそ半分に簡素化されており,集光径や集光位置の安定性の向上や,集光調整手順の簡易化において非常に有効であると期待できる.今後,開発した形状計測装置を利用し,実際に部分回転楕円面形状ミラーを超精密数値制御加工法(EEM)により表面形状を作製,X線により評価することで,本計測装置の計測精度を実証する.