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2014 Fiscal Year Annual Research Report

エレクトロマイグレーションを用いた原子移動機構による強磁性単電子帯電構造の集積化

Research Project

Project/Area Number 24360117
Research InstitutionTokyo University of Agriculture and Technology

Principal Investigator

白樫 淳一  東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (00315657)

Project Period (FY) 2012-04-01 – 2015-03-31
Keywordsマイクロ・ナノデバイス / 少数電子素子 / エレクトロマイグレーション / ナノギャップ / ナノ材料 / 単電子トランジスタ
Outline of Annual Research Achievements

本研究では、エレクトロマイグレーション(EM)現象を巧みに制御・利用することで、単電子トランジスタの至極簡便な作製および集積化技術の開発を行う。今回、本課題で提案する電界放射電流誘起型EM法(アクティベーション法)とは、ナノギャップ電極に対し
て高電界Fowler-Nordheimトンネル電流を誘起することでナノギャップ間での原子のEMを発現させ、原子移動に伴うナノギャップ間隔の変動を素子のコンダクタンス変化としてモニターしながら所望のデバイス特性を「その場」制御しつつ単電子トランジスタを形成する技術である。これより、“通電処理のみ”という非常に簡単な手法にて単電子トランジスタの簡易作製技法とその集積化技術の開拓を行い、単電子機能発現・制御手法の確立を目指す。
最終年度(平成26年度)では、単電子トランジスタ(SET)の更なる集積化を目指し、直列接続された複数のナノギャップに対し本手法を適用し、5素子のSETの集積化と電気的特性の同時制御について検討を行った。電子線リソグラフィーにより直列に接続されたNiナノギャップを作製した。これに対して同一電流を通電することで、各ナノギャップの一括した電気的特性制御を行った。設定電流を100nA、300nA、500nAと順次増加させながら本手法を適用し、その都度、5個のナノギャップの電流-電圧特性を測定した。これより、全てのナノギャップが室温において単電子帯電効果を発現していることが確認できた。以上から、直列に接続した複数個のナノギャップに対して本手法を適用することで、各ナノギャップの電気的特性を同時に制御しながら、アイランド構造を有するナノギャップ(SET構造)が同時に作製されたものと考えられる。本手法により、単電子トランジスタの簡易な作製および集積化技術の可能性が示された。

Research Progress Status

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Causes of Carryover

26年度が最終年度であるため、記入しない。

Expenditure Plan for Carryover Budget

26年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (10 results)

All 2015 2014 Other

All Journal Article (5 results) (of which Peer Reviewed: 5 results) Presentation (4 results) (of which Invited: 1 results) Remarks (1 results)

  • [Journal Article] Ultrafast Feedback-Controlled Electromigration Using a Field-Programmable Gate Array2015

    • Author(s)
      Y. Kanamaru, M. Ando and J. Shirakashi
    • Journal Title

      J. Vac. Sci. Technol. B

      Volume: 33 Pages: 02B106

    • DOI

      http://dx.doi.org/10.1116/1.4903929

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] A Fully Customized Hardware System for Ultra-Fast Feedback-Controlled Electromigration Using FPGA2014

    • Author(s)
      Y. Kanamaru, M. Ando, R. Suda and J. Shirakashi
    • Journal Title

      Conference Proceedings, 2014 14th IEEE International Conference on Nanotechnology (IEEE-NANO)

      Volume: INSPEC Accession #: 14778995 Pages: 719-722

    • DOI

      10.1109/NANO.2014.6968058

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Resistive Switching Effects in Electromigrated Ni Nanogaps2014

    • Author(s)
      K. Takikawa, R. Suda, M. Ito, T. Toyonaka and J. Shirakashi
    • Journal Title

      Conference Proceedings, 2014 14th IEEE International Conference on Nanotechnology (IEEE-NANO)

      Volume: INSPEC Accession #: 14778966 Pages: 715-718

    • DOI

      10.1109/NANO.2014.6968014

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Low-Temperature Deposition of Thin Si, Ge, and SiGe Films Using Reducing Activity of Ballistic Hot Electrons2014

    • Author(s)
      N. Koshida, R. Suda, M. Yagi, A. Kojima, R. Mentek, B. Gelloz, N. Mori and J. Shirakashi
    • Journal Title

      ECS Trans.

      Volume: 64 Pages: 405-410

    • DOI

      10.1149/06406.0405ecst

    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Ballistic Hot Electron Effects in Nanosilicon Dots and Their Photonic Applications2014

    • Author(s)
      N. Koshida, N. Ikegami, A. Kojima, R. Mentek, R. Suda, M. Yagi, J. Shirakashi, B. Gelloz and N. Mori
    • Journal Title

      ECS Trans.

      Volume: 61 Pages: 47-54

    • DOI

      10.1149/06105.0047ecst

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] Structural Tuning of Nanogaps Using Field-Emission-Induced Electromigration with Bipolar Biasing2014

    • Author(s)
      M. Yagi, M. Ito and J. Shirakashi
    • Organizer
      4th International Conference on Manipulation, Manu-facturing and Measurement on the Nanoscale (3M-NANO 2014)
    • Place of Presentation
      Taipei, Taiwan.
    • Year and Date
      2014-10-27 – 2014-10-31
    • Invited
  • [Presentation] Simultaneous Fabrication of Nanogaps Using Field-Emission-Induced Electromigration2014

    • Author(s)
      M. Ito, M. Yagi, K. Morihara and J. Shirakashi
    • Organizer
      4th International Conference on Manipulation, Manu-facturing and Measurement on the Nanoscale (3M-NANO 2014)
    • Place of Presentation
      Taipei, Taiwan.
    • Year and Date
      2014-10-27 – 2014-10-31
  • [Presentation] A Fully Customized Hardware System for Ultra-Fast Feedback-Controlled Electromigration Using FPGA2014

    • Author(s)
      Y. Kanamaru, M. Ando, R. Suda and J. Shirakashi
    • Organizer
      IEEE NANO 2014 (2014 IEEE International Conference on Nanotechnology)
    • Place of Presentation
      Toronto, ON, Canada.
    • Year and Date
      2014-08-18 – 2014-08-21
  • [Presentation] Resistive Switching Effects in Electromigrated Ni Nanogaps2014

    • Author(s)
      K. Takikawa, R. Suda, M. Ito, T. Toyonaka and J. Shirakashi
    • Organizer
      IEEE NANO 2014 (2014 IEEE International Conference on Nanotechnology)
    • Place of Presentation
      Toronto, ON, Canada.
    • Year and Date
      2014-08-18 – 2014-08-21
  • [Remarks] 白樫研究室ホームページ

    • URL

      http://www.tuat.ac.jp/~nanotech/index.htm

URL: 

Published: 2016-06-01  

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