| 研究課題/領域番号 |
18540403
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
生物物理・化学物理
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
奥薗 透 東京大学, 大学院・工学系研究科, 特任講師 (10314725)
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| 研究期間 (年度) |
2006 – 2009
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| 研究課題ステータス |
完了 (2009年度)
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| 配分額 *注記 |
3,240千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 540千円)
2009年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2008年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2007年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2006年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
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| キーワード | 膜 / ソフトマター / 非平衡 / ダイナミクス / 乾燥 / 蒸発 / 膜膜 / 乾燥過程 / スキン層 / ゲル化 / 高分子溶液 / 非平衡ソフトマター |
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| 研究概要 |
高分子溶液の蒸発過程において、表面に形成されるゲル状の膜に関する理論的考察により膜形成の条件を明らかにした。ゲル化に伴う弾性効果を考慮した蒸発速度に対する理論式を導出し、ゲル化により蒸発速度が低下することを説明した。接触線が固定された固体基板上の高分子液滴の乾燥過程を記述するモデルを提案し、乾燥後の膜形状を理論的に予測した。また、複数の液滴の乾燥過程に関する数値シミュレーションを行い、液滴間の干渉効果を議論した。
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