| 研究課題/領域番号 |
22560757
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
反応工学・プロセスシステム
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| 研究機関 | 新潟大学 |
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研究代表者 |
田口 佳成 新潟大学, 自然科学系, 准教授 (30293202)
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| 研究分担者 |
田中 眞人 新潟大学, 自然科学系, フェロー (40018495)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2012年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2011年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2010年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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| キーワード | マイクロカプセル / 複合材料・物性 / 表面・界面物性 |
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| 研究概要 |
複エマルション系を利用した溶融分散冷却法において,液滴調製時の高せん断過程や動的に物性が変化するマイクロカプセル化過程での芯材滴/壁材滴の離脱等の分散挙動を流体力学的,界面科学的検討を行った。また,分散挙動に関する相関式をもとにマイクロカプセルの最適な高含有化・単核化操作プロセスを検討した。そして,マイクロカプセルの構造制御への分散挙動に関する速度式の応用の可能性が示唆された。
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